台積電、三星及英特爾等半導體大廠,在先進製程大戰打得火熱,但摩爾定律是否走到極限,一直是備受關注的焦點,全球最大極紫外光曝光設備(EUV)廠商艾司摩爾(ASML)則強調摩爾定律不會終結,現有技術能實現1奈米製程,摩爾定律也可繼續生效10年,甚至是更長時間。
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▼全球EUV設備龍頭ASML認為,摩爾定律還可持續10年以上。(示意圖/翻攝自ASML臉書)
ASML在一篇文章中指出,「摩爾定律」是誕生於1965 年的前瞻推斷,扮演著如同光一樣的角色,在過去50多年來,一直是半導體業發展的黃金法則,不斷演進,指引晶片製造的每次創新與突破,目前最常被表述為,半導體晶片可容納的電晶體數量呈倍數成長,而增加晶片面積、縮小元件尺寸以及優化器件電路設計,是實現晶體數量翻倍的3個重要因素。
▼質疑摩爾定律失效聲音從未間斷,但電晶體數量每年倍增的定律,至今尚未被打破。(示意圖/pixabay)
ASML表示,在過去15年來,摩爾定律依舊生效,且狀況良好,從整個行業的發展來看,將在未來10年甚至更長時間,讓摩爾定律繼續保持這種態勢。
在半導體元件方面,ASML認為目前半導體製程創新的速度,應該能將製程往1奈米節點推進,另外,在光刻系統分辨率續以每6年縮小2倍的速度精進,再加上邊緣放置誤差(EPE)技術的改善下,半導體晶片繼續向下微縮仍將是可能,「只要我們還有想法,摩爾定律就會繼續生效」。
而台積電在ASML設備技術精進支援下,也有能力再讓製程往1奈米之下程微縮。
▼台積電與是推動摩爾定律持續的動力之一。(示意圖/pixabay)
(封面示意圖/翻攝自ASML官網)
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