ASML獨攬EUV技術 美錯失晶片霸主 外媒揭英特爾錯誤賭注

美國近年積極追求晶片製造業留在本土，但根據外媒分析，過去有機會引領晶片製造技術卻錯過機會，結果讓來自荷蘭的艾司摩爾（ASML）出現壟斷優勢，原因可追溯到英特爾（Intel）在15年前的錯誤賭注，同時讓美國付出慘痛代價。

根據彭博說法，晶片產業最初使用曝光製程來製造電晶體，之後改用紫外光曝光（EUV），因此1980年代的科學家曾在紐澤西州的貝爾實驗室測試，並在能源部研究機構探索使用極紫外曝光機在原子層生產電晶體，當時美國能源部投入數千萬美元研究，但很快發現必須結合行業支持才能開發，於是在1997年由英特爾、超微和摩托羅拉與政府聯合成立名為EVU LLC的實體，希望借助25億美元的私人投資進行相關研究。

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分析提到，上述研究成果的使用權屬於美國政府，根據國防部授予的許可進行分配，後續還有矽谷集團（SVG）參與研發，同一時間ASML、日本的尼康和佳能也在進行類似的研究，但為了防止日本公司獨大，當時美國國防部拒絕授權使用技術的許可證，間接導致ASML和SVG成為研發該領域的參與者。

至於美國為何失去對EUV技術這項關鍵技術的控制權？分析認為，主因是英特爾的戰略錯誤，時任執行長布萊恩科再奇（Brian Krzanich）不相信該技術能以經濟的規模發揮作用，因此放棄ASML第1代EUV機器的生產，反觀ASML在2001年以11億美元收購SVG，成為唯一嘗試開發EVU技術用於商業用途的公司，因此才能在業界獨大。

（封面示意圖／pexels）