產業：EUV需求強勁，ASML第三季成績超標，並看好明年營收逾兩位數成長

全球半導體微影設備龍頭廠艾司摩爾(ASML)公布2020年第三季財報，不單營運數字優於預期，展望2021年，公司更預期將有逾兩位數的營收成長。

ASML公布第三季營運成績，單季銷售淨額(net sales)為40億歐元，淨收入 (net income)11億歐元，毛利率(gross margin)47.5%，新增訂單金額29億歐元。

ASML總裁暨執行長溫彼得(Peter Wennink)表示 :「我們第三季的營收達到40億歐元，高於財測，毛利率維持在47.5%。今年第三季，我們完成10台EUV系統出貨，並認列14台EUV系統的營收。我們的營運在本季並未受到COVID-19疫情的重大衝擊。我們第三季的新增訂單金額達到29億歐元，其中5.95億歐元來自4台EUV系統訂單。」

展望第四季，溫彼得(Peter Wennink)預期，第四季的營收將落在36億歐元到38億歐元之間，毛利率約50%，研發成本約5.5億歐元，管銷費用約1.4億歐元。而2020年的營收展望已經確定，並預估年度有效稅率約14%。

至於2021年的部分，溫彼得(Peter Wennink)提到，儘管宏觀環境存在不確定性，包括COVID-19疫情的經濟影響和地緣政治發展。然而，長期來看，終端市場驅動因素的發展(例如5G、AI和高效能運算)將推動對於高階邏輯運算和記憶體晶片的需求，這些高階製程都需要使用到先進的微影技術，因此預估2021年將有逾兩位數的營收成長。

而就ASML的EUV(極紫外光)微影系統業務部分，公司提到，絕大部分在客戶端的NXE:3400B EUV系統都已完成生產力模組(productivity packages)的升級。也公布了新一代EUV系統TWINSCAN NXE:3600D的最終規格，該系統的生產力提高18%，能在30 mJ/cm2的曝光能量下達到每小時曝光160片晶圓的生產力，同時將匹配機器疊對精度(matched machine overlay)提高到1.1 nm。該系統預計於2021年中開始出貨。

最後就DUV(深紫外光)微影系統業務方面，ASML提到，在第三季對於首台TWINSCAN NXT:2050i微影系統進行認證，並於第四季初完成出貨。TWINSCAN NXT:2050i在光罩載台(reticle stage)、晶圓載台(wafer stage)、投影鏡頭(projection lens)及曝光雷射(exposure laser)方面都有新的技術發展，相較於前一代，TWINSCAN NXT:2050i可以實現更好的疊對控制和更高的生產力。TWINSCAN NXT:2050i將立即進入量產。