產業：ASML看好EUV技術可延伸至下一個十年，未來五年支出複合年增可達兩位數

半導體微影技術廠商艾司摩爾（ASML）提到，有能力將EUV技術延伸到下一個十年，並掌握AI人工智慧所帶來的機會，也預期2025年至2030年間高階邏輯和記憶體晶片中EUV微影技術的支出複合年增長率將可達到兩位數成長。

ASML預期從現在到2030年前，客戶有機會增加製程中的 EUV 曝光層。ASML 持續提升EUV技術的成本效益，將有助客戶在高階邏輯及記憶體晶片製程中，藉由使用EUV 0.33 NA和EUV 0.55 NA達到從多重曝光層進一步改變成單次曝光。因此，ASML 預期2025年至2030年間高階邏輯和記憶體晶片中EUV微影技術的支出複合年增長率將可達到兩位數成長。

SML總裁暨執行長Christophe Fouquet表示：「我們預期我們有能力將EUV技術延伸到下一個十年，並擴展我們多功能的全方位微影產品組合，使ASML能夠充分貢獻和掌握AI人工智慧所帶來的機會，讓ASML能夠實現顯著的營收和獲利成長。」

ASML執行副總裁暨財務長Roger Dassen表示：「半導體終端市場的預期成長，以及未來技術節點對微影製程支出的增加，讓我們對產品與服務的需求充滿信心。根據我們對不同市場和技術情境的評估，我們預期到2030年ASML年營收約為440億歐元至600億歐元，毛利率約為56%至60%。我們確認我們的資本配置策略，並將持續透過增加股利和股票回購，將盈餘回饋給股東。」

基於半導體產業在許多重大發展趨勢中扮演的關鍵角色，半導體產業長期前景看好。

除了幾個重要終端市場的成長潛力之外，ASML認為AI帶來的發展可望成為驅動整體社會生產力與創新的主要動力，並為半導體產業創造顯著商機。這些發展預計將有助於推動全球半導體銷售於2030年超過1兆美元，同時也意味2025年至2030年期間半導體市場將達到9%的年增長率。