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ASML獨攬EUV技術 美錯失晶片霸主 外媒揭英特爾錯誤賭注

2024/04/16 10:34 東森財經新聞
ASML獨攬EUV技術 美錯失晶片霸主 外媒揭英特爾錯誤賭注

美國近年積極追求晶片製造業留在本土,但根據外媒分析,過去有機會引領晶片製造技術卻錯過機會,結果讓來自荷蘭的艾司摩爾(ASML)出現壟斷優勢,原因可追溯到英特爾(Intel)在15年前的錯誤賭注,同時讓美國付出慘痛代價。

根據彭博說法,晶片產業最初使用曝光製程來製造電晶體,之後改用紫外光曝光(EUV),因此1980年代的科學家曾在紐澤西州的貝爾實驗室測試,並在能源部研究機構探索使用極紫外曝光機在原子層生產電晶體,當時美國能源部投入數千萬美元研究,但很快發現必須結合行業支持才能開發,於是在1997年由英特爾、超微和摩托羅拉與政府聯合成立名為EVU LLC的實體,希望借助25億美元的私人投資進行相關研究。

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分析提到,上述研究成果的使用權屬於美國政府,根據國防部授予的許可進行分配,後續還有矽谷集團(SVG)參與研發,同一時間ASML、日本的尼康和佳能也在進行類似的研究,但為了防止日本公司獨大,當時美國國防部拒絕授權使用技術的許可證,間接導致ASML和SVG成為研發該領域的參與者。

至於美國為何失去對EUV技術這項關鍵技術的控制權?分析認為,主因是英特爾的戰略錯誤,時任執行長布萊恩科再奇(Brian Krzanich)不相信該技術能以經濟的規模發揮作用,因此放棄ASML第1代EUV機器的生產,反觀ASML在2001年以11億美元收購SVG,成為唯一嘗試開發EVU技術用於商業用途的公司,因此才能在業界獨大。

(封面示意圖/pexels)

 

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關鍵字: 艾司摩爾EUV技術晶片英特爾
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