個股:ASML全球首台High-NA EUV曝光機出貨英特爾,家登(3680)成最大受惠者
2023/12/22 11:05 財訊快報/記者李純君報導
微影設備大廠艾司摩爾(ASML)在社群媒體X中宣布,經過長達十年的研發及技術推進,全球第一台High-NA EUV曝光機正式出貨給英特爾。法人預期英特爾會在20A製程導入,EUV Pod大單可望由家登(3680)拿下。
受惠於AI處理器的強勁需求,半導體先進製程仍是台積電(2330)、英特爾、三星等大廠明年投資重點,其中,三大廠將會在明年擴大3奈米EUV產能,並加快進入2奈米製程世代。業者預期,2025年邏輯製程微縮至20埃米(2奈米),高數值孔徑(High-NA)EUV曝光機會是最重要設備,每小時晶圓產出可望維持在220片。
艾司摩爾日前於投資人會議中宣布EUV曝光機擴產計畫,2025~2026年低數值孔徑(Low-NA)EUV機台年產能將提高至90台,高數值孔徑(High-NA)EUV機台年產能將在2027~2028年擴增至20台。其中,英特爾、台積電、三星等大廠均已下單採購。
英特爾明年將開始在Intel 20A製程採用High-NA EUV曝光機,家登成為最大受惠者。法人指出,新一代EUV Pod升級認證家登陸續完成,且ASP較前代提高10~20%,對營收及獲利都有明顯貢獻。再者,2023年製程進入3奈米之後,每片晶圓平均EUV光罩層約將倍增達20層,2奈米後將達30層以上,將會帶動EUV Pod需求明顯增加,以家登約八成市占率來看,明年營收將續創歷史新高。
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