輝達晶片如何流入中國？ 美商務部要查了
(2024/12/20 08:47)
中國自製DUV「可製8奈米晶片」？ 外媒打臉：僅能生產65nm
2024/09/20 09:29 東森財經新聞
中國工業和信息化部9月中旬印發《首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》，目錄中列出最新DUV曝光機，宣稱分辨率≤65nm、套刻精度≤8nm，消息令不少中國民眾雀躍，甚至認為可以生產8奈米晶片，但陸媒以及西方媒體卻認為，此款DUV曝光機僅能生產65奈米或以下的晶片。
根據陸媒《芯智訊》報導，有些人得知中國國產曝光機套刻精度≤8nm，於是認為這是8奈米，還大肆宣傳能夠生產8奈米晶片，甚至可以突破美國的技術封鎖，這是錯誤的訊息。
★【理財達人秀】台積電領漲 尾牙季電子攻 設備卡位?獨解量子電腦股!★
《芯智訊》指出，氟化氪曝光機屬於老式的248奈米光源的KrF曝光機，解析度≤110nm、套刻精度≤25nm，再者目錄中的是乾式DUV曝光機，不是先進的浸沒式DUV曝光機（ArF曝光機）。
《芯智訊》說明，套刻精度指的是每一層曝光層之間的對準精度，依照工信部公布的DUV曝光機，估計僅能生產65奈米或以下的晶片。
不僅如此，西方媒體「WccfTech」也直言，大陸新公布國產DUV曝光機至少落後美國15年，因為艾司摩爾（ASML）早在2009年就能透過ArF曝光機生產晶片。
（封面示意圖／Unsplash）
【往下看更多】
►結婚倒數3個月！未婚妻「突喊4條件」 網傻眼：血會被吸乾
►5大銀行8月新承做房貸「罕見大減250億」 央行直指2因素
►楊金龍宣戰投資客「給他們一個lesson」：不是想貸多少就多少
推薦閱讀
人氣新聞
