3奈米不是極限!極紫外光技術延續摩爾定律 台積電領先到2030?
2018/05/24 17:13 東森財經新聞
▲摩爾定律可以延續下去的話,台積電預估還會有30年領先世界的光景。(圖 / PEXELS)
摩爾定律出現重大突破!半導體設備廠艾斯摩爾(ASML)確認了1.5奈米製程的發展性,足以支撐摩爾定律延續至2030年。根據分析,台積電與三星的新戰爭將開打,並以製程領先的台積電勝算較大。
所謂的摩爾定律是指積體電路上可容納的電晶體數目,預計每18個月會將晶片的效能提高一倍。由於電晶體越做越小、電路線越來越窄,幾乎以達到物理極限,曾經多次引起業界擔心半導體的先進製程,將面臨無法繼續升級的問題。
當中美貿易戰引發中興禁售令發布後,中芯隨即向半導體設備廠艾斯摩爾(ASML)訂購極紫外光刻(EUV)機台。這是中芯首次採購EUV設備,預定2019年出貨。據了解,台積電訂購了10台EUV機台、三星訂購6台、英特爾3台,目標預定2019年底量產。
此外極紫外光刻(EUV)工藝未來也會升級,艾斯摩爾將在3奈米與更先進製程採用高數值孔徑(NA)光學系統。去年艾斯摩爾為發展NA系統,收購德國卡爾蔡司子公司蔡司半導體,現在的EUV工藝數值孔徑還是0.33,可用兩三代工藝。
台積電規劃,導入極紫外光(EUV)的7奈米強化版會於明年量產,全數採用極紫光外光的5奈米,則會在2020年量產。台積電能維持產業龍頭地位,靠的是製程不斷進步,因此艾斯摩爾開展1.5奈米製程,不僅有利台積電鞏固優勢,也緩解市場原本擔憂。
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