3奈米不是極限！極紫外光技術延續摩爾定律 台積電領先到2030？
東森財經新聞
▲摩爾定律可以延續下去的話，台積電預估還會有30年領先世界的光景。（圖 / PEXELS）
摩爾定律出現重大突破！半導體設備廠艾斯摩爾（ASML）確認了1.5奈米製程的發展性，足以支撐摩爾定律延續至2030年。根據分析，台積電與三星的新戰爭將開打，並以製程領先的台積電勝算較大。
所謂的摩爾定律是指積體電路上可容納的電晶體數目，預計每18個月會將晶片的效能提高一倍。由於電晶體越做越小、電路線越來越窄，幾乎以達到物理極限，曾經多次引起業界擔心半導體的先進製程，將面臨無法繼續升級的問題。
當中美貿易戰引發中興禁售令發布後，中芯隨即向半導體設備廠艾斯摩爾（ASML）訂購極紫外光刻（EUV）機台。這是中芯首次採購EUV設備，預定2019年出貨。據了解，台積電訂購了10台EUV機台、三星訂購6台、英特爾3台，目標預定2019年底量產。
此外極紫外光刻（EUV）工藝未來也會升級，艾斯摩爾將在3奈米與更先進製程採用高數值孔徑（NA）光學系統。去年艾斯摩爾為發展NA系統，收購德國卡爾蔡司子公司蔡司半導體，現在的EUV工藝數值孔徑還是0.33，可用兩三代工藝。
台積電規劃，導入極紫外光（EUV）的7奈米強化版會於明年量產，全數採用極紫光外光的5奈米，則會在2020年量產。台積電能維持產業龍頭地位，靠的是製程不斷進步，因此艾斯摩爾開展1.5奈米製程，不僅有利台積電鞏固優勢，也緩解市場原本擔憂。
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