台股下跌512點暫失月線！ 黃仁勳一句話「這類股」6檔逆勢攻漲停
台積電才嫌貴！ ASML預告「次世代EUV神機」晶片數月內問世
中央社
世界頂尖半導體生產設備製造商艾司摩爾（ASML）執行長福克19日說，預期幾個月內可看到使用其新一代微影設備高數值孔徑（High NA）極紫外光（EUV）機製造的首批產品問世。
路透社報導，ASML最大客戶台積電4月才表示，High NA EUV曝光機太過昂貴。這種機器每台價格最高可達4億美元（約新台幣126億6000萬元）。
★【理財達人秀】通膨連爆 絕境反攻 委屈大營家 誰先搶先贏 ★
不過，福克（Christophe Fouquet）19日在比利時的微電子研究中心（imec）主辦的一場會議上說，High NA EUV曝光機將降低最先進晶片的圖案化（patterning）成本，無論是邏輯晶片或記憶晶片。
他並表示：「接下來幾個月內，我們將見到首批在High NA系統上曝光（製造）的少數產品，無論是記憶體或邏輯應用。」
（封面圖／翻攝自ASML官網）
【往下看更多】
►對手全掉光！「它」獨吞輝達大單 Aletheia喊買：目標12000
►漢測抽籤首日「吸金3223億」 他跑錯棚 百萬保證金恐打水漂
►三大法人賣超1123億！ 網憶7月走勢驚：外資狂跑散戶瘋進
【熱門排行榜】
►航空貨運恐旺季不旺？ 包機開始退訂 台幣升值「月虧6640萬」
►房貸鬆綁露曙光？集中度降20年低 這族群有望受惠
►唐綺陽示警！ 金星天蠍＋火星衝刺 「4星座」工作感情要當心
推薦閱讀
