ASML擬調升EUV、DUV價格 台積電傳拒買單

全球人工智慧（AI）晶片需求持續升溫，也讓半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML）醞釀新一波漲價。根據美國科技媒體《The Information》及《彭博社》報導，ASML近期已與多家客戶討論調高曝光機售價，其中包括全球晶圓代工龍頭台積電（2330）。不過，知情人士透露，台積電對於同步調漲極紫外光（EUV）及深紫外光（DUV）曝光機價格持保留態度，正試圖抵制相關漲價計畫，雙方價格攻防戰備受市場關注。

報導指出，ASML近幾週已通知部分客戶，包括中國晶片製造商，計畫將DUV曝光設備價格調高至少10%，部分客戶已接受新報價。然而，台積電對EUV與DUV設備同步漲價並不認同，希望維持既有採購成本，以降低龐大的資本支出壓力。針對相關消息，ASML與台積電均未對外發表評論。

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ASML是全球唯一能量產EUV曝光機的設備供應商，也是先進製程不可或缺的關鍵廠商。在AI浪潮帶動下，全球晶片大廠持續擴充產能，推升EUV設備需求。資料顯示，ASML最先進的High-NA EUV曝光機單價最高可達4億美元，上一代EUV設備約2.2億美元，而高階DUV設備售價也接近9,000萬美元，任何價格調整都將牽動半導體業者的投資成本。

RBC Capital Markets分析師指出，包括台積電、三星電子及SK海力士等主要客戶近期營運表現強勁，AI需求持續爆發，使目前市場具備設備漲價條件。ASML財務長Roger Dassen也在最新法說會表示，公司持續提升Low-NA EUV設備生產效率，未來確實存在進一步調高售價的空間，但由於設備交期較長，價格調整不會立即反映在市場。

此外，ASML日前再度上調2026年全年財測，預估全年淨銷售額將達430億至450億歐元，並宣布擴大EUV與DUV設備產能，以滿足AI晶片需求。同時，英特爾（Intel）已開始採用ASML最新High-NA EUV設備投入先進晶片生產，象徵新一代曝光技術正式朝商業化量產邁進。

（封面圖／翻攝《ASML》YT頻道）