ASML最先進EUV首度投產！英特爾已導入18A先進製程

荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）今（15）日宣布，英特爾已開始在18A先進製程節點使用ASML最新的先進晶片製造設備（High NA EUV）生產英特爾Ultra 3處理器系列中的產品，顯示NA EUV技術正式進入量產應用的里程碑。

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ASML表示，公司與英特爾長期緊密合作，致力於推動EUV技術發展、加速半導體製程微縮與技術創新，本次導入英特俺Ultra Series 3處理器，採用18A製成，高NAEUV作為極紫外光刻的嶄新進展，能大幅提升圖案解析度，更細緻描繪晶片結構，為先進製程帶來革命性意義。

ASML總裁兼執行長Christophe Fouquet表示，「導入高NA極紫外線光刻，不僅提升解析度，還優化製程控制，這是半導體光刻技術又一重大跨越。我們很高興能支持客戶實現更小尺寸、更高密度的晶片設計，進而推動人工智慧及各類新興技術。」

英特爾Foundry執行副總裁暨總經理Naga Chandrasekaran也強調：「這項里程碑展示英特爾與ASML在技術上的緊密合作，以及高NA EUV技術在先進半導體製造中的關鍵地位。藉由在英特爾 18A特定產品層取得高NA EUV製程資格認證，現有工具可望為客戶帶來更高產能，我們也將持續擴展未來節點，提高性能、密度與製程彈性。」

此外，英特爾與ASML順利於美國俄勒岡州希爾斯伯勒的核心研發基地完成業界首套商用高NA極紫外線光刻系統的整合，英特爾 Foundry亦成為全球第一家安裝、測試並驗收第二代TWINSCAN EXE：5200B系統的公司，相較前代大幅提升產能、疊對精度與光源效能。此次宣布也讓英特爾成為業界首家以高NA EUV量產先進邏輯元件的代工廠。

（封面圖/翻攝自ASML粉專）