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晶片傳輸塞車 大立光有解!「堆疊絕活」喜迎第二成長曲線

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晶片傳輸塞車 大立光有解!「堆疊絕活」喜迎第二成長曲線

大立光股東會拋出CPO布局震撼彈,憑藉光纖與微透鏡陣列研發,今年將陸續推出新品,以超乎預期的速度與高精度「堆疊絕活」切入AI高速傳輸市場,迎接光學龍頭的第二成長曲線。

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光學龍頭切入高速傳輸

AI資料中心升級速度持續加快,市場焦點已從AI晶片、先進封裝,逐步延伸到高速光通訊技術。分析師陳於晨在臉書發文指出,近期大立光在股東會透露多項CPO布局進度,不僅展現切入高速傳輸市場的企圖心,也讓市場重新評估其在AI供應鏈中的角色與價值。過去市場認為由手機鏡頭跨入CPO仍需較長時間,但股東會透露已投入光纖陣列(FA)與微透鏡陣列(PMLA)開發,相關產品預計今年陸續推出,切入AI高速傳輸市場的腳步比市場預期更快。

獨門堆疊架構助攻晶片瘦身

光纖陣列(FA)已成為核心競爭力。目前主流方案多以12芯、24芯為主,未來高速傳輸需求有機會朝40芯規格發展。傳統1×40排列容易造成模組體積過大,大立光規劃以4×10堆疊架構提升空間利用率,元件寬度可大幅縮小,有利未來高密度光通訊應用。陳於晨進一步分析,FAU模組是切入CPO的重要關鍵,FAU為光纖陣列與微透鏡陣列整合後的重要元件,負責光訊號輸入、聚焦、轉向與傳輸,直接影響傳輸速度、功耗與散熱效率,屬於CPO架構中不可或缺的核心光學模組。

高精度製程築起技術壁壘

除了光纖陣列,PMLA微透鏡陣列則扮演提升光傳輸效率的角色,透過微透鏡將光能量集中,提高光束準直能力與訊號品質,降低訊號損耗與傳輸誤差,有助於未來高速光通訊規格升級。然而,高精度製程也建立起極高的技術門檻。多層堆疊設計對公差要求極高,部分製程需控制在0.1~0.3微米等級,光束對準、鍍膜與組裝良率皆是關鍵技術,且堆疊層數越高,製造難度也同步提升。

量產與驗證為觀察指標

大立光在CPO領域展現出強大的光學技術實力,無論是光纖陣列堆疊、微透鏡陣列設計,甚至設備自主開發能力,都具備一定競爭門檻。陳於晨表示,不過從目前進度來看,市場主流方案仍以2層20條光纖設計為主,未來更高階的4層10條堆疊架構,仍需面對量產良率、公差控制與光學對準等挑戰。因此除了關注技術突破之外,後續客戶驗證、量產進度與實際導入狀況,將是觀察大立光能否擴大市場份額的重要關鍵。

(封面示意圖/AI生成)

 

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關鍵字: 大立光cpo堆疊晶片
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