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HBM4功耗暴降45%!台積電3DFabric平台展現硬實力

HBM4功耗暴降45%!台積電3DFabric平台展現硬實力

台積電處長陳燕銘今天表示,AI運算效能不斷升級,台積電3DFabric平台可提升運算密度與HBM記憶體頻寬、升級COUPE矽光子技術並改善散熱,而CoWoS封裝則可加速AI運算規模。

SEMICON Taiwan國際半導體展將於9月2日登場,異質整合高峰論壇今天舉行。針對人工智慧AI領域的晶片異質整合趨勢,陳燕銘指出,AI效能升級持續驅動電晶體和異質整合設計發展,系統協同技術優化(STCO)對新一代AI系統電源傳輸和降低散熱等非常關鍵,生態系合作對於半導體設計、架構、材料以及工具的創新也很關鍵。

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陳燕銘進一步指出,AI運算效能升級每年成長5倍,AI推理應用更帶動詞元(Token,AI模型的最小運算單位)數倍增加,台積電的3DFabric三維矽堆疊(3D Silicon Stacking)平台,整合先進矽技術和系統整合晶片(SoIC)3D晶片堆疊、COUPE矽光子技術、CoWoS先進封裝等,可提升處理運算密度、高頻寬記憶體(HBM)存取速度和傳輸頻寬、多堆疊互連、以及供電散熱和冷卻等效能,因應AI平台異質整合升級需求。

其中在先進矽技術和SoIC布局,陳燕銘表示已規劃到2029年,A14邏輯晶片製程鍵合間距(Bond pitch)可推進至4.5微米(μm)。

此外,台積電先進矽技術也切入HBM基礎晶片(Base Die)。陳燕銘表示,HBM4 Base Die採用台積電N12技術,功耗可降低超過45%、頻寬可提高2.5倍,台積電持續透過N3基礎晶片製程提升下一代HBM效能,頻寬可再提高2.5倍。

在緊湊型通用光子引擎COUPE(Compact Universal Photonic Engine)技術,陳燕銘指出,透過SoIC平台鍵合光子積體電路(PIC)與電子積體電路(EIC),COUPE技術可整合多樣光學元件。

陳燕銘說,COUPE技術整合光學引擎(OE)可提升能效並降低延遲,台積電持續提升COUPE和共同光學封裝(CPO)效能,未來規劃COUPE置位從電路板、基板朝向中介層(COUPE on Interposer)發展,進一步提升功耗效能及再降低延遲。

在CoWoS先進封裝,陳燕銘指出,隨著光罩尺寸擴大,台積電CoWoS可整合更多系統單晶片(SoC)、SoIC、HBM、COUPE以及其他關鍵元件,可整合24個HBM,大於14倍光罩尺寸的CoWoS版本,預計2029年可實現。

陳燕銘引述數據預期,從2024年到2029年,在單一CoWoS先進封裝可整合的AI運算電晶體數量,將成長超過48倍,單一CoWoS封裝內的HBM頻寬規模則可增加34倍。透過台積電的STCO方案,在AI和高效能運算(HPC)異質整合平台上,透過實際案例已明顯達到散熱以及冷卻的效能。

(封面圖/東森新聞)

 

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關鍵字: 台積電AI運算加速散熱
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